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ps-200单靶磁控溅射镀膜机主要由真空室、磁控靶、旋转基片架、真空系统、机架、电器控制等几大部分组成。可用来制备导电膜、金属膜、介质膜、半导体膜、绝缘膜、多层膜等。设备结构紧凑,占地面积小适合高校实验室及科研院所。
ccu-010 镀膜机提供两种款型。ccu- 010 lv低真空镀膜机,ccu- 010 hv 高真空镀膜机。采用模块化概念,便于以后把低真空镀膜机转变为高真空镀膜机。
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