磁控溅射仪/磁控溅射镀膜仪 -大发棋牌
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- 沈阳科晶 vtc-600-2hd 辽宁 沈阳
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- 1、配置两个靶枪，一个配套射频电源用于非导电靶材的溅射镀膜，一个配套直流电源用于导电性材料的溅射镀膜。 2、可制备多种薄膜，应用广泛。 3、体积小，操作简便。
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- 适安佳 ssg-50m 北京 大兴区
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- 沈阳科晶 vtc-600-2hd-1000 辽宁 沈阳
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- 沈阳科晶 vtc-600-1hd 辽宁 沈阳
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- 沈阳科晶 vtc-600-3hd 辽宁 沈阳
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- 沈阳科晶 vtc-600-2hd 辽宁 沈阳
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- 1、配置两个靶枪，一个配套射频电源用于非导电靶材的溅射镀膜，一个配套直流电源用于导电性材料的溅射镀膜。 2、可制备多种薄膜，应用广泛。 3、体积小，操作简便。
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- 沈阳科晶 vtc-600-3hd 辽宁
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- vtc-600-3hd三靶磁控溅射仪是新自主研制开发的镀膜设备，可用于制备单层或多层铁电薄膜、导电薄膜、合金薄膜、半导体薄膜、陶瓷薄膜、介质薄膜、光学薄膜、氧化物薄膜、硬质薄膜、聚四氟乙烯薄膜等。vtc-600-3hd三靶磁控溅射仪配置三个靶枪，一个配套射频电源用于非导电靶材的溅射镀膜，两个配套直流电源用于导电性材料的溅射镀膜。与同类设备相比，其不仅应用广泛，且具有体积小便于操作的优点，是一款实验
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- 美国那诺-马斯特 nsc-4000 美洲 美国
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- 先进的全自动溅射系统带有水冷或者加热（可加热至700度）功能；8“旋转样平台,可支持到3个偏轴平面磁控管。系统配套涡轮分子泵，极限真空可达10-7 torr，15分钟内可以达到10-6 torr的真空。通过使用rf射频开关，rf射频或dc直流电源可以切换到多磁控管模式。通过调整磁控管与基片之间的距离，可以获得想要的均匀度和沉积速度。
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- ￥48000
- 博远微纳 sd-900m 北京 海淀区
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- sd-900m 型离子溅射仪外观亮丽做工精致。 磁控溅射是物理气相沉积的一种。一般的溅射法可被用于制备金属、半导体、绝缘体等多材料，且具有设备简单、易于控制、镀膜面积大和附着力强等优点，磁控溅射法更是实现了高速、低温、低损伤。因为是在低气压下进行高速溅射，必须有效地提高气体的离化率。磁控溅射通过在靶阴极表面引入磁场，利用磁场对带电粒子的约束来提高等离子体密度以增加溅射率。 配有高位定性的飞跃真空泵
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- ￥2500000
- 博远微纳 sd-650mh 北京 海淀区
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- 可镀铁电薄膜、导电薄膜、合金薄膜、半导体薄膜、陶瓷薄膜、介质薄膜、光学薄膜、氧化物薄膜、硬质薄膜、聚四氟乙烯薄膜等
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- 和同创业 js-1600m 北京
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- 北京博远 etd-600ms 北京
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- ￥68000
- 裕隆时代 lmc-2000 北京 海淀区
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- 全自动控制，操作简捷 镀膜颗粒小，适用于场发射电镜等高倍样品观测，和电极制备 无高热损伤，适用于对温度敏感的样品 内置操作向导，无需培训即可熟练操作
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- 合肥科晶 vtc-600-2hd 安徽
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- 合肥科晶 vtc-3rf 安徽 合肥
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- 北京博远 etd-650ms 北京
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- 郑州科探仪器 kt-z1650pvd 河南 郑州
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- 水冷型磁控溅射仪，7寸人机界面，自动手动模式切换控制，z大功率1000w直流磁控溅射。
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- 郑州科探仪器 kt-z1650pvd 河南 郑州
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- 大功率桌面溅射仪，采用小电流高电压，z大功率1000w，配有水冷机接口，可长时间运行。
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- ￥10
- 裕隆时代 lmc-2000 北京 海淀区
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- 裕隆时代 lmc-2000 北京 海淀区
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- 北京赛德凯斯 sc-su-i 北京 昌平区
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- 赛德凯斯 sc-su-ii型 北京 昌平区
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- 赛德凯斯 sc-su-i 北京 昌平区
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