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大发棋牌>大发棋牌的产品中心>实验室常用设备>制样/消解设备>电子束刻蚀系统 更新时间:2025-08-13 01:42:32

电子束刻蚀系统 -大发棋牌

(共29件相关产品信息)
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更多 微波消解仪/微波消解系统 离子减薄仪 熔样机 切割机 压片机 镶嵌机 电热板 等离子体表面处理仪 离子溅射仪 组织处理仪 电子束刻蚀系统 缺口制样机 红外加热消解系统/红外消解仪 离子束刻蚀系统 磁控溅射仪/磁控溅射镀膜仪 气相沉积系统 消化炉 分子束外延系统 激光溅射沉积系统 原子层沉积系统 匀胶机 石墨消解仪 其它制样消解设备
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    纳腾 pharos 310 上海 徐汇区
    电子束曝光指利用聚焦电子束在光刻胶上制造图形的工艺 , 是光刻工艺的延伸应用 。 电子束曝光系统是实现电子束曝光 技术的硬件平台,系统的性能决定了曝光工艺关键尺寸、拼接和套刻精度等参数。
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    美国pvd e-beam evaporator system 美洲 美国
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    美国rocky mountain rie 美洲 美国
    re系列反应离子蚀刻系统带有淋浴头式样的气体分配系统及水冷射频压盘,柜体为不锈钢材质。
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    英国牛津 plasmapro 800 rie 欧洲 英国
    英国oxford 反应离子刻蚀机plasmapro 800 rie,是结构紧凑、且使用方便的直开式系统,该系统为大批量晶圆和300mm晶圆上的反应离子蚀刻(rie)工艺提供了灵活的大发棋牌的解决方案。大尺寸的晶圆平台能够处理量产级别的批量以及300mm晶圆的工艺。
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    美国trion rie/icp 美洲 美国
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    牛津仪器 system 100 欧洲 英国
    牛津oxford system 100 等离子刻蚀与沉积设备,具有工艺灵活性,适用于化合物半导体,光电子学,光子学,微机电系统和微流体技术。
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    德国sentech icp-rie si 500 欧洲 德国
    衬底温度的设置和蚀刻过程的稳定性是高质量蚀刻的要求。采用动态温度控制的icp基片电极,结合he背面冷却和基片背面温度传感,在-150℃到 400℃的大范围温度范围内,提供了优良的工艺条件。
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    德国sentech etchlab200 欧洲 德国
    etchlab200 德国sentech 经济型反应离子刻蚀机(可升级),经济型刻蚀机应用范围:硅、硅化物、iii-v族化合物半导体、电介质和金属等材料。直接装片型、可升级、在线监控、大尺寸观察窗、远程操作。
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    德国sentech 200 rie 欧洲 德国
    德国sentech 200 rie 离子刻蚀与沉积系统 ,将平行板等离子体源设计与直接负载相结合。根据其模块化设计,etchlab 200可以升级为更大的抽油机、真空负载锁和额外的气体管道。
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    牛津仪器 oxford system 100 欧洲 英国
    oxford system 100 等离子刻蚀与沉积设备,是一个灵活和功能强大的等离子体刻蚀和淀积工艺设备。 采用真空进样室进样可进行快速的晶片更换、采用多种工艺气体并扩大了允许的温度范围。 具有工艺灵活性,适用于化合物半导体,光电子学,光子学,微机电系统和微流体技术。 可处理8 "晶片,也具有小批量(6 × 2")预制和试生产的能力。
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    牛津仪器 plasmapro 80 欧洲 英国
    plasmapro 80是一种结构紧凑、小尺寸且使用方便的直开式系统,可以提供多种刻蚀和沉积的大发棋牌的解决方案。 它易于放置,便于使用,且能确保工艺性能。直开式设计可实现快速晶圆装卸,是研究和小批量生产的理想选择。 它通过优化的电极冷却和出色的衬底温度控制来实现高质量的工艺。
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    韩国femto science cionemini 亚洲 韩国
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    美国nano-master -nre-3500(a)rie 美洲 美国
    rie反应离子刻蚀机nre-3500(a)全自动rie反应离子刻蚀机概述:独立式rie反应离子刻蚀系统,淋浴头气体分布装置以及水冷rf样品.具有不锈钢柜子以及13"的上盖式圆柱形铝腔,便于晶圆片装载.腔体有两个端口:一个带有2"的视窗,另一个空置用于诊断.该系统可以支持zd到12"的晶圆片。
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    sts multiplex icp 欧洲 英国
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    美国那诺-马斯特 nre-4000(a) 美洲 美国
    独立式rie反应离子刻蚀系统,淋浴头气体分布装置以及水冷rf样品,不锈钢柜子以及13“的上盖式圆柱形铝腔,便于晶圆片装载.腔体有两个端口:一个带有2“的视窗,另一个空置用于诊断.该系统可以支持z大到12"的晶圆片。腔体为超净设计,并且根据配套的真空泵可以达到10-6 torr 或更小的极限真空。该系统系统可以在20mtorr到8torr之间的真空下工作。
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    美国那诺-马斯特 rie刻蚀机 美洲 美国
    rie刻蚀机概述:rie系统,配套有淋浴头气体分布装置以及水冷rf样品.具有不锈钢柜子以及13"的上盖式圆柱形铝腔,便于晶圆片装载.腔体有两个端口:一个带有2"的视窗,另一个空置用于诊断.该系统可以支持大到12”的晶圆片。腔体为超净设计,并且根据配套的真空泵可以达到10-6 torr 或更小的极限真空。该系统系统可以在20mtorr到8torr之间的真空下工作。真空泵组包含一个节流阀,一个250l/s的涡轮分子泵,滤网过滤器,以及一个10cfm的机械泵(带formblin泵油).rf射频功率通过600w,13.56mhz的电源和自动调谐器提供。系统将持续监控直流自偏压,该自偏压可以高达-500v.这对于各向异性的刻蚀至关重要。
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    美国那诺-马斯特 ndr-4000(a) 美洲 美国
    全自动上下载片,带低温晶圆片冷却和偏压样品台的深硅刻蚀系统,带8“ icp源。系统配套500l/s抽速的涡轮分子泵,可以使得工艺压力达到几mtorr的水平。在低温刻蚀的技术下,系统可以达到硅片的高深宽比刻蚀。
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    北京华测 北京 顺义区
    离子迁移是指电路板上的金属如铜、银、锡等在一定条件下发生离子化并在电场作用下通过绝缘层 向另一极迁移而导致绝缘性能下降。
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    美国trion minilock-phantom iii icp 美洲 美国
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    善准科技 vp-rs15 广东 广州
    vp-rs15等离子刻蚀机补充国内技术空白(真空不锈钢腔体等离子清洗装置),真空腔体不锈钢材质,功率500w,频率13.56mhz,能对材料起到清洁、刻蚀、活化、改性的作用,满功率运行3分钟,腔体温度不高于45℃,不损伤样品,适用于晶圆去胶、煤灰化、碳毯(cf)、微流控芯片pdms键合、ito导电玻璃、石墨烯、纤维、单晶硅片、pet、二氧化硅等几乎所有材料的plasma处理。
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    ¥554
    北京华测 nmc icp 美洲 美国
    反应离子刻蚀机主要用于介质薄膜干法刻蚀,包括sio2、si3n4、sion、sic等
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    美国axic plasmastar 200/200rie 美洲 美国
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    美国axic plasmastar 100/100rie 美洲 美国
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    上海plutovac winetch 上海 浦东新区
    上海沛沅ccp等离子刻蚀机winetch是面向科研及企业研发客户使用需求设计的高性价比ccp等离子体系统。作为一个多功能系统,它通过优化的系统设计与灵活的配置方案,获得高性能ccp刻蚀工艺。该设备结构紧凑占地面积小,专业的机械设计与优化的自动化操作软件使该设备操作简便、安全,且工艺稳定重复性很好。
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    上海plutovac winetch 上海 浦东新区
    上海沛沅icp等离子刻蚀机winetch是面向科研及企业研发客户使用需求设计的高性价比icp等离子体系统。作为一个多功能系统,它通过优化的系统设计与灵活的配置方案,获得高性能icp刻蚀工艺。该设备结构紧凑占地面积小,专业的机械设计与优化的自动化操作软件使该设备操作简便、安全,且工艺稳定重复性很好。
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    德国sentech icp/ rie 欧洲 德国
    仪器广泛应用于微电子、光电、纳米技术、led、平板显示、材料、有机电子、光伏、玻璃镀膜、生物学、生命科学、等研发领域。
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    英国spts spts-01 欧洲 英国
    spts能为客户提供一系列的先进的工艺,比如功率mosfet和200mm和300mm晶圆上的高端封装(3d封装和芯片级封装)。
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等离子刻蚀机清洗机用于表面清洗,活化,刻蚀电源属于150w 13.56mhz的射频电源。作为一种精密干法清洗设备,主要应用于半导体、镀膜工艺、pcb制程、pcb制程、元器件封装前、cog前、真空电子、连接器和继电器等行业的精密清洗,塑料、橡胶、金属和陶瓷等表面的活化以及生命科学实验等。,与动辄十几万美元的大型产品相比小型等离子清洗机具有成本低廉、操作灵活的特点。

vp-rs15等离子刻蚀机补充国内技术空白(真空不锈钢腔体等离子清洗装置),真空腔体不锈钢材质,功率500w,频率13.56mhz,能对材料起到清洁、刻蚀、活化、改性的作用,满功率运行3分钟,腔体温度不高于45℃,不损伤样品,适用于晶圆去胶、煤灰化、碳毯(cf)、微流控芯片pdms键合、ito导电玻璃、石墨烯、纤维、单晶硅片、pet、二氧化硅等几乎所有材料的plasma处理。

上海沛沅ccp等离子刻蚀机winetch是面向科研及企业研发客户使用需求设计的高性价比ccp等离子体系统。作为一个多功能系统,它通过优化的系统设计与灵活的配置方案,获得高性能ccp刻蚀工艺。该设备结构紧凑占地面积小,专业的机械设计与优化的自动化操作软件使该设备操作简便、安全,且工艺稳定重复性很好。

上海沛沅icp等离子刻蚀机winetch是面向科研及企业研发客户使用需求设计的高性价比icp等离子体系统。作为一个多功能系统,它通过优化的系统设计与灵活的配置方案,获得高性能icp刻蚀工艺。该设备结构紧凑占地面积小,专业的机械设计与优化的自动化操作软件使该设备操作简便、安全,且工艺稳定重复性很好。

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