激光溅射沉积系统 -大发棋牌
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- 美国neocera p180,pec-180 美洲 美国
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- 美国neocera pld 脉冲激光沉积系统 p180 , 一种用途广泛的、用于薄膜沉积以及纳米结构和纳米粒子合成的方法. ped 脉冲电子束沉积系统 ped-180,是高能脉冲 (100ns) 电子束 ( 约 1000 a,15 kev) 在靶材上穿透将近 1 um，使靶材快速蒸发形成等离子体。对靶材的非平衡提取（烧灼）使等离子体的组成与靶材的化学计量组成一致。在良好条件下，靶材的化学计量与沉积薄膜的保持一致。
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- 沈阳科晶 辽宁 沈阳
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- 美国pvd pld 美洲 美国
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- 美国neocera pioneer 180-2-pl 美洲 美国
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- 美国neocera 脉冲激光沉积系统pioneer 180-2-pld,一种用途广泛的、用于薄膜沉积以及纳米结构和纳米粒子合成的方法
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- 美国neocera p180,pec-180 美洲 美国
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- 美国neocera pld 脉冲激光沉积系统 p180 , 一种用途广泛的、用于薄膜沉积以及纳米结构和纳米粒子合成的方法. ped 脉冲电子束沉积系统 ped-180,是高能脉冲 (100ns) 电子束 ( 约 1000 a,15 kev) 在靶材上穿透将近 1 um，使靶材快速蒸发形成等离子体。对靶材的非平衡提取（烧灼）使等离子体的组成与靶材的化学计量组成一致。在良好条件下，靶材的化学计量与沉积薄膜的保持一致。
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- 美国pvd pld-1000 美洲 美国
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- pld是将脉冲激光透过合成石英窗导入真空腔内照射到成膜靶上，靶被照射后吸收高密度能量而形成的plume状等离子体状态，然后被堆积到设在对面的基板上而成膜。
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- 桂宁 上海 金山区
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- 脉冲激光沉积（pulsed laser deposition，pld），也被称为脉冲激光烧蚀（pulsed laser ablation，pla）指的是用激光使材料挥发,从而将材料镀在所要求的样品（衬底）上的薄膜沉积技术。pld-301脉冲激光沉积系统是日本诚南工业根据客户的要求，在丰富经验的基础上设计制造的，采用pbn加热器，可将基板加热到1000℃以上，并采用氧气气氛，从而生产出高质量的薄膜。
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- 深圳科时达 pld-300 美洲 美国
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- 脉冲激光沉积系统-pld 型号：ap-pld230 脉冲激光沉积系统(pld)是将脉冲激光导入真空腔内照射到成膜靶上，靶被照射后吸收高密度能量而形成的plume状等离子体状态，然后被堆积到设在对面的基板上而成膜。pld方法可以获得拥有热力学理论上准稳定状态的组成和构造的人工合成薄膜材料。 我们pld系统拥有z好的性能价比, 用户用z少的钱买到研究级高性能的纯进口pld系统。
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- 深圳科时达 pld-12l/18l 美洲 美国
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- 脉冲激光沉积是一种真空镀膜技术。
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- 美国neocera pioneer180maplepld 美洲 美国
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- 基质辅助脉冲激光蒸发(maple)是pld的一种变体。这是由nrl集团新引入的技术，以促进某些功能有机材料的薄膜沉积。基于uv (5-6 ev)的传统pld技术中，光化学反应可能会恶化有机分子、聚合物等的功能。而在maple中，通过将待沉积的有机物(或聚合物)与吸收激光波长的溶剂(基质)混合来制备特殊的靶。除了光学吸收外，在沉积条件下的高蒸气压是基质的先决条件。
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- 美国neocera combinatorial pld system 美洲 美国
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- 连续组成扩展功能（ccs）可在单次沉积中沉积很多不同组分的材料，大大缩短了沉积不同组分材料合成新材料的时间， 实现合成材料组分的优化。pld-ccs 系统能以连续的方式改变材料，没有必要使用掩模。可以在每一次循环中，以小于 一个单分子层的速率，快速连续沉积每一种组份，其结果是类似于共沉积法。该法无需在沉积后进行退火促进内部扩散或 结晶，对于生长温度是关键参数的研究或者被沉积的材料或基片不适合高温退火的情况是非常有帮助的。neocera 公司 pld 系统可在同一个系统上实现带有连续组成扩展功能（ccs-pld）和标准型 pld 功能。
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- 美国neocera ion-assisted pld system 美洲 美国
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- 离子辅助pld可以通过改变成核过程或生长动力学来创建氧化物或金属的界面。 离子辅助沉积已经成为在无规取向的基片或非晶衬底上沉积双轴结构薄膜的一种重要技术。neocera 开发了离子辅助的 pld 系统，该系统将 pld 在沉积复杂材料方面的优势与 ibad 能力结合在一起。
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- 美国neocera pioneer 120 pld system 美洲 美国
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- pioneer 120 pld system是基础型独立pld系统，用于制备高质量的外延薄膜、多层异质结、超晶格等。该pld系统与pioneer 120 advanced系统和pioneer 180 pld系统的主要区别是衬底加热阶段。pioneer 120 advanced系统使用导电加热阶段用于衬底加热， 其他模型使用辐射加热阶段。为了达到950°c的额定高温，基板必须与加热板紧密接触，用银浆提供加热板和基板之间的紧密接触(当需要这些高温时)。在不需要银浆的情况下，还提供衬底夹来固定衬底。在这些情况下,zg衬底温度可能低于额定950°c。加热器是氧兼容的，能达到1大气(760托)的氧, 这个特性有助于制备外延氧化薄膜：可能需要在氧气环境后沉积和氧气压力接近1 atmosphere后退火冷却。pioneer 120 pld系统包括一个自动多目标转，具有目标旋转、目标光栅和软件控制的多层和超晶格沉积所需的目标选择。闭环压力控制提供了使用质量流量控制器的精确过程压力控制。干式泵是由机械隔膜泵或涡旋泵支持的涡轮分子泵组合而成。该系统软件(windows 7, labview 2013)控制基材加热器，目标转，过程压力，系统泵和激光触发。
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- 美国neocera pioneer 180 pld system 美洲 美国
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- •外延薄膜、多层异质结构和超晶格的沉积。 •使用原位rheed诊断技术沉积纳米级薄膜。 •氧化膜沉积的氧相容性。 •升级:离子辅助pld，组合型pld，目标衬底负载锁定。 •其他沉积源:脉冲电子沉积(ped)，射频/直流溅射，直流离子枪。 •与xps /arpes特高压集群工具集成，原位特高压晶片转移。 •原位诊断:低角度x射线光谱学(laxs)和离子能光谱学(ies)。
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- 美国neocera large-area pld systems 美洲 美国
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- •全自动大尺寸pld系统 •晶圆尺寸:4 "(100毫米)，6 "(150毫米)和8 "(200毫米)直径 •外延薄膜、多层异质结构和超晶格的沉积 •高温下氧化膜沉积的氧相容性 •自动激光扫描厚度均匀性
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- 美国neocera pioneer120 advanced pld system 美洲 美国
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- neocera pioneer 系列 pld 系统— 基于zhuo越经验的创新设计 neocera 利用pld 开展了深入广泛的研究，建立了获得**薄膜质量的临界参数，特别适用于沉积复杂氧化物薄膜。 这些思考已经应用于pioneer 系统的设计之中。
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- svt associates pld-01/pld-02 美洲 美国
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- 美国那诺-马斯特 npd-4000（a） 美洲 美国
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- 1. 易获得期望化学计量比的多组分薄膜，即具有良好的保成分性； 2. 沉积速率高，试验周期短，衬底温度要求低，制备的薄膜均匀； 3. 工艺参数任意调节，对靶材的种类没有限制； 4. 发展潜力巨大，具有极大的兼容性； 5. 便于清洁处理，可以制备多种薄膜材料。
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- 美国那诺-马斯特 npd-4000（m） 美洲 美国
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- 1. 易获得期望化学计量比的多组分薄膜，即具有良好的保成分性； 2. 沉积速率高，试验周期短，衬底温度要求低，制备的薄膜均匀； 3. 工艺参数任意调节，对靶材的种类没有限制； 4. 发展潜力巨大，具有极大的兼容性； 5. 便于清洁处理，可以制备多种薄膜材料。
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1. 易获得期望化学计量比的多组分薄膜，即具有良好的保成分性； 2. 沉积速率高，试验周期短，衬底温度要求低，制备的薄膜均匀； 3. 工艺参数任意调节，对靶材的种类没有限制； 4. 发展潜力巨大，具有极大的兼容性； 5. 便于清洁处理，可以制备多种薄膜材料。
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pld是将脉冲激光透过合成石英窗导入真空腔内照射到成膜靶上，靶被照射后吸收高密度能量而形成的plume状等离子体状态，然后被堆积到设在对面的基板上而成膜。
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脉冲激光沉积系统-pld 型号：ap-pld230 脉冲激光沉积系统(pld)是将脉冲激光导入真空腔内照射到成膜靶上，靶被照射后吸收高密度能量而形成的plume状等离子体状态，然后被堆积到设在对面的基板上而成膜。pld方法可以获得拥有热力学理论上准稳定状态的组成和构造的人工合成薄膜材料。 我们pld系统拥有z好的性能价比, 用户用z少的钱买到研究级高性能的纯进口pld系统。
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脉冲激光沉积是一种真空镀膜技术。
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基质辅助脉冲激光蒸发(maple)是pld的一种变体。这是由nrl集团新引入的技术，以促进某些功能有机材料的薄膜沉积。基于uv (5-6 ev)的传统pld技术中，光化学反应可能会恶化有机分子、聚合物等的功能。而在maple中，通过将待沉积的有机物(或聚合物)与吸收激光波长的溶剂(基质)混合来制备特殊的靶。除了光学吸收外，在沉积条件下的高蒸气压是基质的先决条件。
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